項(xiàng)目信息 | |
備案項(xiàng)目編號(hào) | 2020-440607-26-03-071899 |
項(xiàng)目名稱 | 濕電子化學(xué)品工程研究中心建設(shè)項(xiàng)目 |
項(xiàng)目所在地 | 佛山市三水區(qū)大塘鎮(zhèn)大塘工業(yè)園興唐路29號(hào) |
項(xiàng)目總投資 | 7500.0萬元 |
項(xiàng)目規(guī)模及內(nèi)容 | 建設(shè)半導(dǎo)體用濕電子化學(xué)品制備技術(shù)研發(fā)及產(chǎn)品分析檢測(cè)評(píng)價(jià)中心。包括了濕電子化學(xué)品、功能性濕電子化學(xué)品復(fù)配液和半導(dǎo)體旋涂材料的研發(fā)實(shí)驗(yàn)室和中試研發(fā)示范線的建設(shè),以及濕電子化學(xué)品分析檢測(cè)評(píng)價(jià)實(shí)驗(yàn)室的建設(shè)。 |
建設(shè)單位 | 佛山西隴化工有限公司 |
備案機(jī)關(guān) | 佛山市三水區(qū)大塘鎮(zhèn)經(jīng)濟(jì)發(fā)展辦公室 |
備案申報(bào)日期 | 2021年06月02日 |
復(fù)核通過日期 | 2021年06月04日 |
項(xiàng)目起止年限 | 2020年10月01日 - 2023年10月01日 |
項(xiàng)目當(dāng)前狀態(tài) | 辦結(jié)(通過) |
濕電子化學(xué)品是微電子、光電子濕法工藝制程中使用的各種液體化工材料,是電子技術(shù)與化工材料相結(jié)合的創(chuàng)新產(chǎn)物,具有技術(shù)門檻高、資金投入大、產(chǎn)品更新?lián)Q代快等特點(diǎn)。
濕電子化學(xué)品的分類
1.按用途分
濕電子化學(xué)品按用途主要分為通用化學(xué)品和功能性化學(xué)品兩類。其中通用化學(xué)品以高純?nèi)軇橹鳎缪趸瘹?、氫氟酸、硫酸、磷酸、鹽酸、硝酸等;功能性化學(xué)品指通過復(fù)配手段達(dá)到特殊功能、滿足制造中特殊工藝需求的配方類或復(fù)配類化學(xué)品,主要包括顯影液、剝離液、清洗液、刻蝕液等。
濕電子化學(xué)品主要品種一覽
2.按應(yīng)用領(lǐng)域分
濕電子化學(xué)品目前廣泛應(yīng)用在半導(dǎo)體、平板顯示、太陽能電池等多個(gè)領(lǐng)域,其中液晶面板領(lǐng)域增速快。即按下游產(chǎn)品應(yīng)用的工藝環(huán)節(jié)分,主要有平板顯示制造工藝的應(yīng)用、半導(dǎo)體制造工藝的應(yīng)用及太陽能電池板制造工藝的應(yīng)用。
其中平板顯示制造領(lǐng)域?qū)耠娮踊瘜W(xué)品的需求量最高,半導(dǎo)體制造工藝用濕電子化學(xué)品是技術(shù)要求最高,太陽能電池板制造用濕電子化學(xué)品盈利能力一般。
濕電子化學(xué)品按應(yīng)用領(lǐng)域分類
濕電子化學(xué)品的應(yīng)用
濕電子化學(xué)品主要應(yīng)用在半導(dǎo)體、平板顯示、太陽能光伏領(lǐng)域等微電子器件制造領(lǐng)域,廣泛應(yīng)用于超大規(guī)模集成電路、LED、TFT-LCD面板制造過程、太陽能硅片的蝕刻與清洗。
超凈高純?cè)噭┑膽?yīng)用多種多樣,例如在晶圓生產(chǎn)過程中對(duì)于晶圓的清洗,在芯片制造光刻工藝中的刻蝕、顯影和洗脫過程,同時(shí)在芯片制造和 PCB 板制造中的電鍍液(例如硫酸銅)的制備原料硫酸也屬于超凈高純?cè)噭┓懂?。晶圓清洗試劑是前端加工關(guān)鍵工藝。由于集成電路內(nèi)各元件及連線相當(dāng)微細(xì),因此制造過程中,如果遭到塵粒、金屬的污染,很容易造成晶片內(nèi)電路功能的損壞,形成短路或斷路等,導(dǎo)致集成電路的失效以及影響幾何特征的形成。因此在集成電路加工之前,必須對(duì)晶圓進(jìn)行清洗,清除殘留在晶圓上之微塵、 金屬離子及有機(jī)物之雜質(zhì)。
CMP 研磨液的配置原料中涉及超凈高純?cè)噭┑膽?yīng)用,例如其中用作氧化劑的雙氧水(H2O2)和堿性溶液 KOH。在硅表面處理過程中涉及到堿洗除去 Si 余料和酸洗活化 SiO2表面過程中分別涉及堿性試劑氨水 NH3·H2O 和酸性試劑 H2SO4 等。
最新建設(shè)項(xiàng)目推薦